北京航天高力通科技发展有限公司注册于中关村园区海淀园，是集光清洗技术和光清洗机的研究、设计、生产、销售为一体的高新技术企业。公司依靠自己的力量，成功的开发了具有世界先进水平的工业化UV光清洗机系列产品，大功率低压紫外汞灯不仅在国内领先，而且与国际上同类产品水平相当，UV光清洗机的清洗效果达到国外先进水平。经清华大学化学系分析中心俄歇电子能谱仪检测，对ITO玻璃基片进行光清洗后，达到了原子清洁度。二○○三年六月，公司研制的紫外光表面清洗机获得国家知识产权局颁发的《发明专利》证书（专利号：ZL00105842.8，国际主分类号：HOIL21/30）。我公司目前是国内唯一专业从事光清洗机研制、生产、销售并获得UV光清洗机发明专利授权的单位；也是国内自行研制的UV光清洗机最早进入市场的高新技术公司。
UV紫外光表面清洗机可用于LCD、OLED显示屏生产，及半导体硅晶片、光学玻璃、石英晶体、膜块、磁头、集成电路、敷铜箔层压板、高精度印制电路板以及金属、橡胶、塑料等生产中对各种表面进行光清洗或光改质处理。
1.光电子产品的高性能、微型化要求表面洁净度越来越高，常规的清洗方法（如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等）已不能满足要求，UV光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，而且不存在三废处理问题，有利于环境保护。
2. 光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法清洗技术。被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走，不可能重返被清洗的表面，不会像溶液清洗时发生二次污染。
3. 一般情况下，光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。
4.光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。